中国称已破解西方耗资数十亿美元保护的芯片制造技术

中国科学院上海光学精密机械研究所的研究人员开发了一种激光产生等离子体EUV光源平台，在2025年3月的一篇论文中实现了3.42%的转换效率，这是实现国内先进芯片制造的关键一步。EUV仍然是7纳米以下制程的技术瓶颈，而ASML已被禁止销售其最先进的极紫外光刻机。中国在EUV光源技术上的突破可能对全球芯片制造格局产生重大影响。